水平晶體定向儀

簡(jiǎn)要描述：下一代垂直Laue晶體定向系統
有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學(xué)背反射Laue系統允許實(shí)時(shí)晶體定向，精度低至0.1度。
單晶的電光特性強烈依賴(lài)于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線(xiàn)衍射圖案，從而能夠以?xún)?yōu)異的精度選擇正確的晶面。

產(chǎn)品型號： LAUESYS

所屬分類(lèi)：晶體定向儀

更新時(shí)間：2024-12-17

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從非線(xiàn)性光學(xué)到噴氣發(fā)動(dòng)機渦輪葉片和超導材料，單晶材料在新型器件中發(fā)揮著(zhù)重要作用。高分辨率晶體定向系統是捕獲和分析各種晶體材料的Laue衍射圖案的理想工具。

使用專(zhuān)用軟件，可以快速準確地測量單晶的取向

該系統在樣品上提供小于0.3mm的強X射線(xiàn)束。單晶的電光特性強烈依賴(lài)于晶體取向。

LAUE工具從單晶中收集高分辨率的X射線(xiàn)衍射圖，從中可以非常準確地選擇正確的晶面切割。

主要功能

有垂直、水平和顆粒貼圖配置

即插即用緊湊型機柜系統-無(wú)需定制工作臺或額外服務(wù)

全自動(dòng)和電動(dòng)X(jué)YZ平臺和測角儀，可提供手動(dòng)選項

CCD背反射、高分辨率、高靈敏度x射線(xiàn)探測器

專(zhuān)有聚焦光學(xué)器件，提供較小的準直光束尺寸

使用機載高分辨率觀(guān)察相機快速精確地對準小晶體

用于精確和可重復樣品定位的距離測量工具

專(zhuān)門(mén)的Laue軟件用于全面控制、數據采集、處理和分析

高通量樣品篩選選項

垂直Laue配置

垂直Laue系統是最靈活的配置，它使用垂直光束路徑對隔離的多個(gè)晶體或多個(gè)感興趣的區域進(jìn)行高通量掃描。使用重力，樣品不需要粘附在平臺上，從而更容易安裝和定向晶體。光束尺寸小于200µm時(shí)，可容納亞毫米范圍的樣品和渦輪合金等較大部件。

水平Laue配置

Laue系統也可采用傳統的水平幾何形狀。水平Laue系統非常適合定向晶體進(jìn)行切割或快速掃描晶體以識別反射。

顆粒圖配置

一種垂直系統，具有特殊的相機、鏡頭、照明和繪圖軟件，用于測量每個(gè)顆粒的方向。Grain Map包括一個(gè)全電動(dòng)X(jué)YZ載物臺和角度計作為標準，非常適合于硅片的晶粒映射。